| 類別 | 內容 |
|---|---|
| 設備節拍 | 850盤/天 |
| 產品良率 | ≧99.5% |
| 設備精度 | 晶圓片上下片重復定位精度可達到±0.15mm，±0.2度以內 |
| 設備尺寸 | L3m*W2.7m**H2.45m |
使用場景：PSS段ICP工藝生產前
全自動：高度智能信息化系統可實現自動上盤、盤尋邊、晶圓mapping、晶圓尋邊、Wafer ID讀取、自動上片、自動鎖螺絲、盤自動下料、Wafer ID與盤SN綁定LINK后上傳至MES.
高配置：CCD自動檢測、著名品牌工業機器人、全過程伺服控制系統、全過程智能檢測系統.
高精度：晶圓片上下片重復定位精度可達到±0.15mm，±0.2度以內.
人性化：成熟先進的自動控制技術，增加智能監控，智能語音提醒，既滿足工業生產也兼顧人因工程.
